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| ハンセン事業部商品案内 > Porvair Sciences社製品トップ > サンプル濃縮装置 > 自動サンプル濃縮装置 UltravapTM RC | ||||||
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マイクロプレート用自動サンプル濃縮装置 － UltravapTM RC UltravapTM RCはマイクロプロセッサーにより完全にプログラム制御できる自動サンプル濃縮装置です。スタンドアローンとしてコンピュータでの制御もしくは自動リキッドハンドラーに接続して使用できます。調整したステージ位置、ガス温度、ガス流量などのパラメーターを内部メモリに記録できます。多くの自動リキッドハンドラー筐体に内に安全に設置することができ、統合したシステムとして、窒素吹きつけによるマイクロプレートのサンプル濃縮をオートメーション化することができます。
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| 窒素の吹き付け | |
| 暖められたガスをマイクロプレートウェル、ちょうど液面レベル位に吹きつけます。サンプル蒸発時の熱エネルギーも利用でき、より効率的なサンプル濃縮を実現します。 これにより、より早く状態を安定させ、さらに短い濃縮時間でのサンプル濃縮を可能にしました。 溶媒から濃縮、乾燥、再構成が必要なサンプルを取り出す要求事項において、自動化における問題となっていた障害を最も簡単な方法で実現するのが、「窒素の吹き付け」方法になります。 |
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| 柔軟なプログラミング設定 | |
| UltravapTM RCは、自動リキッドハンドリング装置の延長アームから直接濃縮用テーブルにプレートをセット、取り出しができるように考慮された設計をしています。従来のUltravapTMと比較しても、フロントエンド部が22mm短くなったため、自動リキッドハンドリング装置の延長アームのアクセスがより改善されています。 ステッパーモーターの制御で乾燥プロセス中のテーブル位置を上昇させることができるので、蒸発する溶媒の種類に応じて最適なサンプル濃縮条件をプログラムすることができます。 設定できるパラメーターは、「時間」「ガス温度」「ガス流量」を個々に設定でき、1つのプログラム（最大9つまで）として保存できます。1つのプログラムでは2つの乾燥フェーズがあり、1つ目の乾燥フェーズでは早い時間の乾燥、2つ目の乾燥フェーズではより緩やかな乾燥が行われます。 ＜操作概要＞ ●Time（時間） 選択した時間（秒単位）によって、プラットフォームが現在位置から次の位置に移動する時間 ●Temp（温度） 選択した温度（°C）によって、現在位置から次に到着するまでのガス温度 ●Flow（ガス流量） 選択した流量（LPM）によって、現在位置から次に到着するまでのガス流量  |
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| 溶媒濃縮の互換性 | |
| 96ウェル用のストレートニードルとスパイラルニードル、24バイアル用、384ウェル用のストレートニードルから最適なニードルを選択できるのでUltravapTM
RCの対応用途は非常に広範になっています。ジクロロメタン、メタノール、アセトニトリルやヘキサンなどの通常のクロマトグラフィー溶媒は簡単に濃縮することが可能です。 窒素吹き出しによる濃縮を行うので、DMF、DMSOや水のような高い沸点の溶媒濃縮には適していません。また、酸や酸塩化物は腐食に対する特別な措置が必要なのでお勧めできません。 より早い濃縮用にはスパイラルニードル、Vウェルプレートのような間口が狭いものにはストレートニードルを選択することができます。 スパイラルニードルを使用すると溶媒内で渦を形成し、溶媒の表面積を増やしてサンプル濃縮時間を早めます。しかし、Vウェルや384ウェルプレートのような間口狭い場合、ストレートニードルの方が適しています。 |
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| UltravapTM RCシステム要求事項 | |
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UltravapTM RC製品仕様  UltravapTM RC製品型番  UltravapTM用アクセサリ  |
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